Bd.15(2012):73-171_Hahmann

 

Peter Hahmann (Jena)
Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie (Teil 2: ab 1990)
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 15 (2012), S. 73-171

Inhalt:
In diesem Beitrag werden die Jenaer Arbeiten zur Elektronenstrahllithographie beschrieben, die zunächst ab 1990 in der Jenoptik Carl Zeiss Jena GmbH, danach ab 1998 in der Leica Microsystems Lithography und schließlich ab 2005 in der VISTEC Electron Beam GmbH durchgeführt wurden sind.
Folgende Geräteentwicklungen werden ausführlich beschrieben:
- Zeiss Belichtungs-Anlagen ZBA 23, ZBA 31/32
- Elektronenstrahl-Schreiber (Shaped Beam) SB 250, SB 350/SB 3050, SB 450
Abschließend wird auf die Methoden zum Nachweis der Leistungsparameter eingegangen und auf die Anwendungen der Geräte als Markenschreiber (pattern generator).
Der Teil 1 des Beitrages, der den Zeitraum bis 1990 analysiert, ist im Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 14 (2011), S. 21-83 erschienen.

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