Bd.9(2006):535-566_Plontke

 

Rainer Plontke
Lithographiesystem LION-LV1
Jenaer Jahrbuch zur Technik – und Industriegeschichte Band 9 (2006), S. 535-566

Inhalt:
Es werden Entwicklung, Eigenschaften und Anwendungen eines speziellen Lithographiesystems für Integrierte Optik und Nanostrukturen (LION) beschrieben. Es handelt sich um ein elektronenoptisches Gerät, das mit sehr geringen Beschleunigungsspannungen arbeitet (LV1 = Low Voltage 1 kV) und deshalb bei der Exposition von Resistmaterial eine besonders hohe Auflösung ermöglicht und ausschließlich für Forschungszwecke angewendet wurde.

>zurück